平面度測(cè)量
平面度測(cè)量
flatness measurement
長(zhǎng)度計(jì)量技術(shù)中對(duì)平面度誤差的測(cè)量。平面是由直線組成的，因此直線度測(cè)量中直尺法、光學(xué)準(zhǔn)直法、光學(xué)自準(zhǔn)直法、重力法等也適用于測(cè)量平面度誤差。測(cè)量平面度時(shí)，先測(cè)出若干截面的直線度，再把各測(cè)點(diǎn)的量值按平面度公差帶定義(見(jiàn)形位公差)利用圖解法或計(jì)算法進(jìn)行數(shù)據(jù)處理即可得出平面度誤差。也有利用光波干涉法和平板涂色法測(cè)量平面誤差的。光波干涉法常利用平晶進(jìn)行，圖[用平晶測(cè)量平面得到的干涉條紋]
為測(cè)量所得的不同干涉條紋。圖中a [用平晶測(cè)量平面得到的干涉條紋]的干涉條紋是直的,而且間距相等,只在周邊上稍有彎曲。這說(shuō)明被檢驗(yàn)表面是平的，但與光學(xué)平晶不平行,而且在圓周部分有微小的偏差。圖中b[用平晶測(cè)量平面得到的干涉條紋]的干涉條紋彎曲而且間隔不相等，表明被檢驗(yàn)表面是球形的,平晶有微小傾斜
條紋彎曲度約為條紋間距的1.5倍,表示平面度誤差為1.5×0.3μm=0.45μm。圖中c[用平晶測(cè)量平面得到的干涉條紋]的干涉條紋呈圓形，同樣表明被檢驗(yàn)表面是球形表面。將條紋數(shù)目乘以所用光束波長(zhǎng)的一半，即得所求的平面誤差為1.5×0.3μm=0.45μm。圖中d[用平晶測(cè)量平面得到的干涉條紋]的干涉條紋成橢圓形排列，說(shuō)明被檢驗(yàn)表面是桶形的可以把干涉圖案作為被檢驗(yàn)表面的等高線,因此可以畫(huà)出該表面的形狀。這種方法僅適宜測(cè)量高光潔表面，測(cè)量面積也較小，但測(cè)量精確度很高。蔡其恕
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